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Ni-118滚
镀镍光亮剂
Ni-118滚镀镍电镀制程具有整平性佳、出光快、良好的光亮度和分散性能。这就使得此制程成为对光亮度和高走位高要求工件的优良选择。 特点:1.出光速度快,整平性佳。2.镀层分散性能好。3.有机分解产物少,杂质容忍性高,槽液不易老化。4.适合于复杂零件的滚镀镍。
Ni-301
镀镍光亮剂
Ni-301光亮镍电镀制程具有整平性佳、出光快、具超凡亮度。槽液在49℃下操作,将不会丧失整平性和光亮度。铬对镍有着良好接受性而无白色水纹产生,这就使得此制程成为于短时间内获得良好镍镀层的不错选择。特点:1.出光速度快,整平性佳。2.镀层光亮饱满。3.有机分解产物少,杂质容忍性高,槽液不易老化。4.镀层光亮性、柔软性、套铬性能好。
镀层粗糙,一定跟
镀镍光亮剂
有关系吗?
电镀厂在面对镀镍层出现粗糙的故障时,往往先从
镀镍光亮剂
开始排查,但是在实际生产中,造成粗糙的原因是有很多种的,比如挂具、砂洗铜杆、处理镀液未过滤彻底等等。本期文章我们来分析一下。
如何判断霍尔槽试片低区的光亮性(
镀镍光亮剂
)
在使用
镀镍光亮剂
打片时,霍尔槽试片低区的光亮性要如何判断才不会失误?
电解除杂有哪些具体的操作方法?(
镀镍光亮剂
)
我们在使用
镀镍光亮剂
时,如果需要使用电解来去除异金属杂质,一般来说有连续法和间歇法这两种方法可以采用,不同场景下需要采用的方法也不同,本期文章我们就来分析一下连续法是怎么操作的?适用于哪些场景?
赫尔槽试验需要遵守的先易后难原则(
镀镍光亮剂
)
在上一期文章里,我们谈到了做氯化钾镀锌工艺的赫尔槽试验时需要遵守2个原则,其中一个是先易后难原则,其实,在使用
镀镍光亮剂
打片时,这个原则也适用。
被迫停产、损失镍盐?你还在用电解法低效率除铁杂质吗(
镀镍光亮剂
)
在使用
镀镍光亮剂
时,你是不是经常被铁杂质污染所困扰?是不是使用电解法后不仅无法完全去除杂质,还要损失大量镍盐?是不是使用除杂剂后反而变严重,铁离子沉不下来,镀液变混浊,加双氧水调整PH也不行?本期文章将告诉你如何解决。
使用
镀镍光亮剂
时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素(三)
我们在使用
镀镍光亮剂
时,还有一个因素会影响低电流密度区的镀层光亮性,那就是液温。
使用
镀镍光亮剂
时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素(二)
前文中我们谈到了使用
镀镍光亮剂
时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素有辅助光亮剂不足、硼酸不足、镀液pH值过低。那么,这一期文章我们就来讨论另外2个原因。
使用
镀镍光亮剂
时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素
在使用
镀镍光亮剂
时,挂镀复杂件及滚镀亮镍,要求低电流密度区光亮性好。如果低电流密度区光亮性不足,应主要从下述方面找原因:
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