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使用镀镍光亮剂时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素(二)

浏览次数:1 作者: 编辑: 来源: 广东比格莱科技 发布日期: 2025.04.26
信息摘要:
前文中我们谈到了使用镀镍光亮剂时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素有辅助光亮剂不足、硼酸不足、镀液pH值过低。那么,这一期文章我们就来讨…

前文中我们谈到了使用镀镍光亮剂时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素有辅助光亮剂不足、硼酸不足、镀液pH值过低。那么,这一期文章我们就来讨论另外2个原因。

延伸阅读:《使用镀镍光亮剂时,影响低电流密度区镀层光亮性的主要因素》

①镀液中氯离子过少

当主盐浓度又不足时,建议补加氯化镍;主盐浓度够时,补加化学纯氯化钠(不适合使用加碘食用盐);pH值高时用盐酸调低。

②杂质污染

在使用镀镍光亮剂的生产过程中,铜件或镀铜件镀亮镍,优先考虑铜杂质污染:污染量小时,低电流密度区镀层亮度下降;污染量大时,小电流密度区镀层发黑。污染量小时可加入比格莱的镀镍除铜剂Ni-393,能去除镀液中的铜、锌等金属杂质。 镀镍光亮剂Ni-301

铜杂质污染量大时,比格莱工程师建议,坚持对镀液搅拌条件下(静镀效果很差)用小电流密度(小至电解板镀层不亮或发黑)电解处理则最好。循环过滤条件下镀液先流经一小电解槽,用一台小整流器作连续电解处理,则是一种比较有用的办法。

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